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拼多多10几块的美瞳可以用吗,拼多多ovolook品牌美瞳 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则突发消息。

  美光公司在华销售的(de)产品(pǐn)未通过网络安全(quán)审查(chá)

  据网信办消息,日前(qián),网络(luò)安(ān)全(quán)审查办公室依法对美光公司在华(huá)销售产(chǎn)品(pǐn)进(jìn)行(xíng)了网络安全(quán)审(shěn)查(chá)。

  审查发现(xiàn),美(měi)光公司产品存在较严重网络(luò)安全问题隐(yǐn)患,对我国关键信息基础设(shè)施(shī)供(gōng)应链造(zào)成重大安(ān)全风险,影响我国国家安全。拼多多10几块的美瞳可以用吗,拼多多ovolook品牌美瞳此,网络安全审查(chá)办公(gōng)室依法拼多多10几块的美瞳可以用吗,拼多多ovolook品牌美瞳(fǎ)作出不予通过网络安全审查的结(jié)论(lùn)。按照《网络安全法》等法(fǎ)律(lǜ)法规(guī),我(wǒ)国内关键(jiàn)信息(xī)基础设施的运营者应停(tíng)止(zhǐ)采购美光公司(sī)产(chǎn)品。

  此(cǐ)次对美光公司产品进行网络安(ān)全审查(chá),目的是防范产品(pǐn)网(wǎng)络安全问题危(wēi)害国(guó)家关键信息基础设施安全,是维护国家安全的(de)必要措施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对(duì)外开放(fàng),只(zhǐ)要遵守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求,欢(huān)迎(yíng)各国企业(yè)、各类平(píng)台产品服务进入中国市场。

  半(bàn)导体突发!中国出手:停止采购(gòu)!

  3月31日,中国网信网发文称,为保障关键信息基础设施供应链安全,防范产品问题隐患造成网(wǎng)络安(ān)全风(fēng)险,维护国家安全,依据《中华(huá)人民共和国国(guó)家安全法》《中华人(rén)民共和国网络安全法》,网络(luò)安全审查办(bàn)公室按照《网络安全审查办法(fǎ)》,对美(měi)光(guāng)公司(Micron)在华销售的产(chǎn)品实施网络安全审查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采购!

  美光是美国的(de)存(cún)储芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯片巨头(tóu)之一,2022年收入来自中(zhōng)国市场收入从此前高(gāo)峰57%降至(zhì)2022年约11%。根据(jù)市场咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份(fèn)额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士、美(měi)光在全球(qiú) DRAM (内存)市(shì)场份(fèn)额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙、佰(bǎi)维存(cún)储等公司披露过美光等国际(jì)存(cún)储厂商为公司供应商。

  美光在(zài)江波(bō)龙采购占比(bǐ)已(yǐ)经(jīng)显著下(xià)降,至少(shǎo)已(yǐ)经不是主要大供应商(shāng)。

  公告(gào)显示, 2021年美光位列(liè)江波龙第(dì)一大存储(chǔ)晶(jīng)圆供应(yīng)商,采购约31亿元(yuán),占比33.52%;2022年(nián),江波龙第一大、第二(èr)大和第(dì)三大供应商采购(gòu)金(jīn)额占比(bǐ)分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存储(chǔ)产业链上下(xià)游建立国内外广(guǎng)泛合作。2022年年报显(xiǎn)示,江波龙(lóng)与(yǔ)三星、美光、西部数据等(děng)主要存储晶(jīng)圆(yuán)原厂签署了长期合约,确保存储晶圆(yuán)供应(yīng)的(de)稳定(dìng)性,巩固(gù)公司在(zài)下游(yóu)市场的供(gōng拼多多10几块的美瞳可以用吗,拼多多ovolook品牌美瞳)应优势(shì),公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良(liáng)好(hǎo)的合(hé)作。

  有券商(shāng)此(cǐ)前就分析,如果美光在中国区销售(shòu)受到限制,或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长(zhǎng)鑫存储等竞对(duì)产品

  分析(xī)称(chēng),长存、长(zhǎng)鑫的(de)上游(yóu)设(shè)备厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工(gōng)艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入(rù)3D NAND时代(dài),2 维到3维的结构转变(biàn)使刻蚀和薄(báo)膜成为最关(guān)键(jiàn)、最(zuì)大量的(de)加(jiā)工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿要刻到 60:1的(de)深(shēn)孔,未来可能会更深的孔或(huò)者沟槽,催生更(gèng)多设备(bèi)需求。据东京电子披露,薄(báo)膜(mó)沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开支合(hé)计为75%。自长江存(cún)储被(bèi)加入美国限制(zhì)名单(dān),设备国(guó)产化进程(chéng)加(jiā)速,看好拓荆科技(薄膜沉积(jī))等相关公(gōng)司份额提升,以及存储业(yè)务占比(bǐ)较(jiào)高的华海清科(CMP)、盛美(měi)上海(清(qīng)洗)等收入增长。

 

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